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高硅铝硬质氧化工艺及氧化电源的选配
时间: 2018-9-29 23:14:37   点击数:0

高硅铝硬质氧化工艺及氧化电源的选配

硬质阳极氧化的槽液,一般是硫酸溶液以及硫酸添加有机酸,如草酸、氨基磺酸等。另外,可通过降低阳极氧化温度或降低硫酸浓度来实现硬质阳极氧化处理。对于铜含量大于5%或硅含量大于8%的变形铝合金,或者高硅的压铸造铝合金,也许还应考虑增加一些阳极氧化的特殊措施。例如:对于2XXX系铝合金,为了避免铝合金在阳极氧化过程中被烧损,可采用385g/L的硫酸加上15g/L草酸作为电解槽液,电流密度也应该提高到2.5A/dm以上。

硬质氧化膜一般要求厚度为25-150um,大部分硬质阳极氧化膜的厚度为50-80um,膜厚小于25um的硬质阳极氧化膜,用于齿键和螺线等使用场合的零部件,耐磨或绝缘用的阳极氧化膜厚度约为50um,在某些特殊工艺条件下,要求生产厚度为125um以上的硬质阳极氧化膜,但是必须注意阳极氧化膜越厚,其外层的显微硬度可以越低,膜层表面的粗糙度增加。

 阳极硬质氧化电源波形
1、直流阳极氧化:直流电电解的阳极氧化,电流效率高。
2、交直流阳极氧化:交直流电电解的阳极氧化。
3、交流阳极氧化:交流电电解的阳极氧化,特殊情况使用。
4、脉冲阳极氧化:脉冲电流电解的阳极氧化,适于硬质阳极氧化膜的制备。

 

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